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分子状汚染のモニタリング

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分子状汚染のモニタリング

Type:

完璧なクリーン環境モニタリングソリューション (製品とサービス)の一環として、 Particle Measuring Systems (PMS) は、mobile(モバイル)、 multi-point(マルチポイント)、 point-of-use(ポイントオブユース) の3つの選択肢のある浮遊分子状汚染(AMC)対策を提供しています。

ハイテク産業のウルトラクリーン製造プロセスでは、浮遊分子状汚染(AMC)が多大な損失をもたらすことがあります。 PMSの AMCモニタリング装置は、酸類、 アミン類、アンモニア、塩化物を検出し、製品が汚染される前に問題とその発生場所の迅速な特定を可能にします

PMSのAMC モニタリングシステムの利点

常時100%コンタミフリーの環境はありませんが、PMSのAirSentry AMC モニタリングシステムを頼りにすることで、 損失の大きい汚染物質の侵入前にコンタミを特定できます。AMC モニタリングシステムの様々な設定には以下の利点があります。

  • 連続監視または移動監視のための多目的設定機能
  • 完全で信頼できるデータの生成と動向
  • 長期データの動向と結果
  • テスト単価およびサンプリングポイント単価の削減
  • エンドユーザーが特定した多種多様の化合物検出
  • 犠牲の大きい損害が発生する前のAMC問題および発生源の特定
  • 浮遊分子状汚染(AMC)レベルの特徴把握

AirSentry 浮遊分子状汚染監視アプリケーション

半導体、フォトニクス/オプティクス、航空宇宙を含む幅広い産業において、浮遊分子状汚染(AMC)の監視は有効です。Particle Measuring SystemsのAirSentry AMCモニターは、連続遠隔監視または移動監視のための様々な設定機能を有し、以下の用途に利用できます。

  • 浮遊分子状汚染(AMC)のトラブルシューティングと汚染源の特定
  • 汚染現象の分離と確認
  • ミニエンバイロンメントとプロセスツールの効果的監視
  • 薬液フィルタ性能のテストと検証
  • クリーンルームとプロセスベイのマルチポイント監視
  • 新設クリーンルーム内のAMCレベルの基準定義および条件付け
  • 薬液フィルタ効率の分析と定量化
  • 補給空気および再循環空気が寄与する浮遊分子状汚染(AMC)の特性化
  • エッチングプロセスにおける腐食のリアルタイム監視
  • リソグラフィーシステム内のアミンおよびアンモニアの監視
  • 薬液フィルタ効率の定量化
  • クリーンルームおよびプロセスツール全体の浮遊分子状汚染(AMC)源の追跡とトラブルシューティング
  • FOUPウェハストレージモジュール内の浮遊分子状汚染(AMC)の分析

浮遊分子状汚染(AMC)モニタリングに関する詳細

お客様のアプリケーションに適した対策を見つけるため、AMC監視技術において業界トップクラスの専門技術者が作成した論文をご参照ください。

  • 移動監視システムによる分子状汚染源の検出、位置特定、トラブルシューティングの迅速化
  • リソグラフィープロセス向けに最適化された分子状汚染監視
  • クリーン製造環境における確実な汚染管理

Particle Measuring Systems(PMS)は、信頼できる業界のエキスパートとして、分子状汚染監視システムの他、気中および液中パーティクル監視システムをご提供し、生産ラインの歩留まり改善および製品の汚染防止対策をサポートします。また、PMSの専門技術者から成るグローバルチームは、様々なプロセスアプリケーションに適した各種対策をご用意し、お客様のお役に立てる体制を整えています。

詳細は弊社へお問い合わせください。

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スペクトリス株式会社
PMS事業部
101-0048
東京都千代田区
神田司町2-6 司町ビル1F

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