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Particle Measuring Systems
Without measurement there is no control
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半導体プロセスにおける微粒子汚染のモニタリング

PMS®は高感度のパーティクルカウンターと
微粒子のモニタリングを効果的に行うための
専門知識でお客様のニーズに応えます。

微細化が進む半導体プロセスにおいて、品質と歩留まりの低下をまねく
微粒子汚染を管理する手法としてパーティクルカウンターを用いた
製造環境・プロセスのモニタリングは非常に有効です。

Particle Measuring Systems (PMS)では、クリーンルームの空気中あるいは
プロセス用超純水や高品位薬液、高純度ガス中に浮遊する微粒子を
高い精度で検出するパーティクルカウンターを各種取りそろえています。

  • 超純水のモニタリング用パーティクルカウンター

    ≥ 20 nm 超純水

  • 高品位薬液のモニタリング用パーティクルカウンター

    ≥ 20 nm 高品位薬液

  • 空気・ガスのモニタリング用パーティクルカウンター

    ≥ 100 nm 空気・ガス

  • 分子状汚染物質(AMC)のモニタリング装置

    ≥ 70 ppt 分子状汚染物質

PMSのソリューションはモニタリングシステムの
構築から導入・運用・保守までをトータルで
サポートします。

  • 設備監視ソフトウェア

    モニタリングソフトウェア

  • プロジェクトサービス

    プロジェクトサービス

  • 教育およびトレーニング

    教育・研修プログラム

高品位薬液

半導体デバイスの製造では多くの工程で高品位薬液を使用します。薬液の品質が製品の歩留まりや品質に及ぼす影響は小さくなく、薬液中の微粒子のモニタリングは、薬液の製造段階から使用段階まで行われることがきわめて重要です。パーティクルカウンターを使用してオンラインで常時モニタリングすることにより、薬液の品質の変化に迅速に対応することができます。バッチ測定が可能な機種もあります。

超純水

半導体製造における洗浄・リンスの工程や、高品位薬液の希釈、分注装置の洗浄に使用される超純水は、半導体デバイス技術の進化にともない、より高度な品質が求められています。パーティクルカウンターを使用したオンラインの常時モニタリングにより、超純水の精製工程やウェハー洗浄工程を効果的に管理することができます。

高純度ガス

超高純度ガスは最先端の半導体デバイスやLED・有機ELディスプレイ、ディスクドライブ、精密光学機器の製造に欠かせません。薄膜形成に用いられる原料ガスであれ、原料ガスをパージするためのガスであれ、低品質のガスが製造装置に供給されると点欠陥や薄膜のはがれ不良、イオン汚染による電気的特性の変化が起こり、歩留まりが低下します。そのため、精製段階から使用段階に至るまでガスを常時モニタリングし、その品質を保証する必要があります。高圧ディフューザーの使用により大気圧で動作するように設計されたパーティクルカウンターで、配管内の不活性ガスの品質検査やトラブルシューティング、バルブ清浄度の検証試験を行うことができます。活性ガスにも対応する、高圧のまま測定可能な専用機種もあります。

空気清浄度

クリーンルームの清浄度は半導体をはじめとする精密機器の製造品質に直結します。クリーンルーム空気中に浮遊する微粒子をモニタリングすることにより、使用している空気ろ過システムの精度やパーティクル発生源、プロセスあるいは製品への影響などについて有用なデータが得られます。用途や予算に応じた最適な気中パーティクルカウンターをお選びいただけます。

分子状汚染物質

高度に微細加工される表面に分子状汚染物質(AMC)が吸着すると、その表面の化学的または物理的、電気的、光学的特性が変化し、歩留まりロスや品質不良を招いたり、プロセス制御が失われることもあります。PMSのAMCモニタリング装置は、クリーンルーム空気中の分子状汚染物質をリアルタイムに検出します。

アプリケーションノート

  • 気中パーティクルカウンターの選定

    概要・ダウンロード

    掲載日 2020年9月11日

製品・ソリューション

  • Chem 20™ 液中パーティクルカウンター

    最先端のエレクトロニクス製造プロセスで使用される高品位薬液・超純水をモニタリングするための、ハイエンドの液中パーティクルカウンター。粒径 20 nmの不溶性微粒子を検出。

  • AirSentry® II 移動式AMCモニタリングシステム

    分子状汚染物質 (AMC) をイオン モビリティ スペクトロメータ (IMS) で移動測定するための、オールインワンのモニタリングシステム。

  • SLS 20 Liquid Sampler

    SLS-20 シリンジサンプラー

    高品位薬液・超純水中の不溶性微粒子をバッチ測定するためのサンプリング装置。Chem 20™液中パーティクルカウンター用。

  • Ultra DI® 20 液中パーティクルカウンター

    最先端の半導体、ウェハーの製造プロセスなどに使用される超純水をモニタリングするための液中パーティクルカウンター。粒径 20 nmの不溶性微粒子を検出。

  • Lasair® III 気中パーティクルカウンター

    ISO 14644-1:2015に適合したクリーンルームの評価・検証が可能な気中パーティクルカウンター。ISO 21501-4に準拠。オプションのバッテリー装着でポータブル用途に対応。

  • Lasair® III 110 気中パーティクルカウンター

    最小可測粒径0.1 µm、流量28.3 L/分の気中パーティクルカウンター。 3年間保証の半導体レーザー搭載。オプションのバッテリー装着でポータブル用途に対応可能。

  • PoE対応小型気中パーティクルセンサー:
    Airnet® II/IIs 2チャンネル

    コンパクトで設置自由度の高い遠隔操作式据置型気中パーティクルカウンター。2段階の粒径区分で測定。

  • PoE対応小型気中パーティクルセンサー:
    Airnet® II 4チャンネル

    コンパクトで設置自由度の高い遠隔操作式据置型気中パーティクルカウンター。4段階の粒径区分で測定。

  • ポンプ内蔵・据置型気中パーティクルセンサー:
    IsoAir® 310P

    ポンプ(ブロワ)内蔵の遠隔操作式据置型気中パーティクルカウンター。除染に対応可能な耐食性を高めた316Lステンレス製の筐体を持ち、経済性と耐久性にすぐれたモニタリングツール。

  • SLS シリンジ サンプリング システム

    シリンジサンプラーと液中パーティクルカウンターを一体化したシステム。超純水・高品位薬液のバッチ測定用。

  • LiQuilaz® II Eシリーズ 液中パーティクルカウンター

    光遮へい型、全量測定方式の液中パーティクルカウンター。フッ化水素酸を除く高温の腐食性薬液などの微粒子測定用。

  • AirSentry® II 多点式AMCモニタリングシステム

    分子状汚染物質 (AMC) の多点モニタリング用システム。測定対象に応じ、最大3台のイオン モビリティ スペクトロメータ (IMS) を搭載可能。

  • AMC Monitoring AirSentry® II Point-of-Use Ion Airborne Molecular Contamination Mobility Spectrometer

    AirSentry® II AMCモニター

    分子状汚染物質 (AMC) の常時モニタリングに適したイオン モビリティ スペクトロメーター(IMS)。

  • 加圧サンプリングシステム:CLS-700 T

    加圧サンプラーと液中パーティクルカウンターを一体化したシステム。気泡を含む液体中の微粒子測定用。

  • LiQuilaz® II Sシリーズ 液中パーティクルカウンター

    光散乱型、全量測定方式の液中パーティクルカウンター。フッ化水素酸や高温の腐食性薬液などの微粒子測定用。

  • SamplerSight ソフトウェア

    SamplerSightソフトウェアは電子工業向けアプリケーションで使用する、バッチサンプリングシステム SLSシリーズ…

  • HSLIS-M50e 液中パーティクルカウンター

    超純水の常時モニタリング用液中パーティクルカウンター。導入コスト・運用コスト重視の高感度装置。

  • HSLIS-M65e 液中パーティクルカウンター

    超純水・高品位薬液の常時モニタリング用液中パーティクルカウンター。導入コスト・運用コスト重視の高感度装置。

  • DataAnalyst ソフトウエア

    DataAnalystソフトウエアはパーティクルカウンターで得られたデータを理解するための簡単かつ低コストな方法で…

  • Facility Net モニタリング ソフトウェア

    Facility Net Facility Monitoring Softwareは、パーティクルカウンタおよび分子汚染モニタ等を用い、常時モニタリングを実施する際…

  • インラインパーティクルカウンター 高圧ガスプローブ

    高圧ガスプローブ:HPGP™-101-C

    高圧ガスをライン圧のままインラインで測定する気中パーティクルカウンター。酸素、水素といった活性ガスのサンプリングも可能な防爆設計。ほとんどの非毒性ガスに対応。

  • HSLIS-M100e 液中パーティクルカウンター

    超純水・高品位薬液の常時モニタリング用液中パーティクルカウンター。導入コスト・運用コスト重視の高感度装置。

  • Ultra DI® 50 液中パーティクルカウンター

    最先端の半導体、ウェハーの製造プロセスなどに使用される超純水をモニタリングするための液中パーティクルカウンター。粒径 50 nmの不溶性微粒子を検出。

  • UltraChem® 40 液中パーティクルカウンター

    独自の技術 NanoVision Technology® によりノイズを除去し、高い精度で 40 nm のパーティクルを検出する光散乱式液中パーティクルカウンター。エレクトロニクス製造プロセスに欠かせない高品位薬液(高分子溶液)や純水の品質管理に。

製品情報

  • 気中パーティクルカウンター
  • 液中パーティクルカウンター
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  • 環境モニタリングシステム・データ管理

アプリケーション分野

  • ライフサイエンス
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サービス・サポート

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  • 該非判定書(輸出)

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Particle Measuring Systems- Japan

PMS日本支社
(スペクトリス㈱PMS事業部)

〒210-0024
神奈川県川崎市川崎区
日進町7-1
川崎日進町ビル4F

T: 044 589 3498 (代表)
T: 044 589 3418 (校正・修理)
F: 044 245 5000
E: [email protected]

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F: 044 245 5000
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