高品位薬液
半導体デバイスの製造では多くの工程で高品位薬液を使用します。薬液の品質が製品の歩留まりや品質に及ぼす影響は小さくなく、薬液中の微粒子のモニタリングは、薬液の製造段階から使用段階まで行われることがきわめて重要です。パーティクルカウンターを使用してオンラインで常時モニタリングすることにより、薬液の品質の変化に迅速に対応することができます。バッチ測定が可能な機種もあります。
超純水
半導体製造における洗浄・リンスの工程や、高品位薬液の希釈、分注装置の洗浄に使用される超純水は、半導体デバイス技術の進化にともない、より高度な品質が求められています。パーティクルカウンターを使用したオンラインの常時モニタリングにより、超純水の精製工程やウェハー洗浄工程を効果的に管理することができます。
高純度ガス
超高純度ガスは最先端の半導体デバイスやLED・有機ELディスプレイ、ディスクドライブ、精密光学機器の製造に欠かせません。薄膜形成に用いられる原料ガスであれ、原料ガスをパージするためのガスであれ、低品質のガスが製造装置に供給されると点欠陥や薄膜のはがれ不良、イオン汚染による電気的特性の変化が起こり、歩留まりが低下します。そのため、精製段階から使用段階に至るまでガスを常時モニタリングし、その品質を保証する必要があります。高圧ディフューザーの使用により大気圧で動作するように設計されたパーティクルカウンターで、配管内の不活性ガスの品質検査やトラブルシューティング、バルブ清浄度の検証試験を行うことができます。活性ガスにも対応する、高圧のまま測定可能な専用機種もあります。
空気清浄度
クリーンルームの清浄度は半導体をはじめとする精密機器の製造品質に直結します。クリーンルーム空気中に浮遊する微粒子をモニタリングすることにより、使用している空気ろ過システムの精度やパーティクル発生源、プロセスあるいは製品への影響などについて有用なデータが得られます。用途や予算に応じた最適な気中パーティクルカウンターをお選びいただけます。
分子状汚染物質
高度に微細加工される表面に分子状汚染物質(AMC)が吸着すると、その表面の化学的または物理的、電気的、光学的特性が変化し、歩留まりロスや品質不良を招いたり、プロセス制御が失われることもあります。PMSのAMCモニタリング装置は、クリーンルーム空気中の分子状汚染物質をリアルタイムに検出します。
