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Particle Measuring Systems
Without measurement there is no control
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On Demand Webinar

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Monitoring Guidelines for the Control of Particle Contamination in High-Purity Process Chemicals.

The critical dimension of today’s advanced semiconductors continues to trend to smaller sizes.
Killer particles have been shown to come from many sources at these small geometries. It is no longer enough to rely on the Certificates of Analysis (CoA) from high-purity material manufacturers, and in particular, for bulk and specialty chemical suppliers. Continuous particle monitoring of these chemicals at all stages of the process are required to maintain the ultra-cleanliness that is required for control.

Watch this on demand webinar to learn:

  • Effects of transportation on chemical cleanliness
  • Protection of the manufacturing process through filtration
  • Time to usability for new liquid filters
  • Effects of liquid filter aging on the process
  • Options for Point-of-Use (PoU) process tool chemical particle monitoring

Presented by industry experts from Particle Measuring Systems (PMS).

Complete the form to access this webinar anytime. 

PRESENTERS

  • Presenter

    Dwight Beal

    Global Product Line Manager Liquids

    Dwight Beal’s experience exceeds 35 years working directly with industry professionals, scientists, and engineers to provide reduced sampling variation using particle contamination monitoring for liquid applications. He understands the challenges customers experience and is well-known in the industry for providing the best contamination monitoring and data management solutions.

  • Presenter

    David Green

    Applications Engineer

    David Green has an extensive background in particle physics with over 12 years of experience working in the field of particle metrology. He is based in our office in Germany.

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00044 Frascati (Roma)

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F. +39-06-9051315
[email protected]
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