ParticleSeeker™ Campionatore d’Aria Multiporta

Sensibilità: 10 nm

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Dettagli del prodotto

  • 10 punti di collettore
  • Portata del campione: 0,1 CFM
  • Intervallo di campionamento: Min 1 secondo, Max 3600 secondi
  • Copertura di campionamento fino a 120 m2 di fabbrica/spazio di process
  • I LED indicano le porte di campionamento attive
  • Modalità di campionamento multiple (4)
    ” Ensemble: campiona tutte le porte contemporaneamente
    ” Seeker: si rivolge a qualsiasi porta identificata durante il funzionamento dell’ensemble
    ” Synch: comunica con lo strumento di processo in tempo reale per seguire il processo di fabbricazione (percorso del wafer) attraverso gli strumenti di processo e i mini-ambienti
    ” Definito dall’utente
  • Ingombro ridotto: 8,2 x 5,4 x 4,7 pollici (21x14x12 cm)
  • L’indirizzo IP e l’ubicazione dello strumento rimangono nella stazione base, che può essere sostituita con tempi di inattività minimi (< 5 minuti).
  • Relè a contatto secco (x4)
  • Ingressi analogici 4-20mA (x4) e uscite (x2) per sensori aggiuntivi (es. temperatura, UR, DAP)
  • Porta USB
  • Porte Ethernet (2): Protocollo Ethernet e MODBUS su TCP/IP
  • Fornisce una copertura di 120 m2 di campionamento di spazio di processo
  • ‘unico collettore di particelle d’aria sul mercato progettato e realizzato appositamente per l’uso con nanoparticelle campione (<100 nm).
  • Elimina la diafonia e altri problemi comuni di gestione del trasporto delle nanoparticelle.
  • Capacità di monitorare più posizioni del campione in sequenza o in modo programmato
  • Le interfacce di comunicazione multiple di ingresso/uscita consentono il trasferimento dei dati SCADA senza soluzione di continuità, riducendo i tempi di inattività degli impianti di processo
  • Le porte di alimentazione DC (x2) consentono a ParticleSeeker di condividere l’alimentazione con un NanoAir.

ParticleSeeker + NanoAir (cotaparticele per aria):

  • Monitoraggio all’interno di mini-ambienti di impianti di processo Equipment Front End Module (EFEM)
  • Ideale per le applicazioni che richiedono un monitoraggio programmato del punto di campionamento che segue il percorso del wafer o di altre superfici critiche
  • Ampio monitoraggio della contaminazione quando si utilizzano porte multiple per manifold

 

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