Monitoring of UPW Systems Using Ultra DI® 20 (Monitoraggio di sistemi UPW che utilizzano Ultra DI® 20)

Grazie ai continui progressi ottenuti nel campo dei processi e delle apparecchiature, i produttori di semiconduttori adottano dimensioni di 14 nm o anche minori, mentre le altezze di sollevamento dal disco rigido sono ora inferiori a 10 nm. Queste dimensioni sempre minori nei dispositivi richiedono adeguati miglioramenti nel livello di pulizia dell'acqua ultrapura (UPW). La purezza UPW è particolarmente importante nell'uso intensivo a contatto diretto con i wafer come agente di pulizia e risciacquo finale in molte fasi di produzione. L'applicazione dei recenti progressi ottenuti nell'ottica laser e nelle tecnologie di rilevamento permette un monitoraggio efficace della concentrazione di particelle UPW ≥20 nm (≥9 nm per particelle metalliche). 

Monitoring of UPW Systems Using Ultra DI20 cover

Questo documento mette a confronto i tre modelli di contatori di particelle UPW per consentire l'identificazione delle migliori soluzioni per applicazioni specifiche.

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