Contaparticelle per Prodotti Chimici
20 nm Sensibilità Leader del Settore
Alcuni composti chimici sono utilizzati nella produzione di semiconduttori e altri prodotti critici.
Il numero/diametro delle particelle presenti è fondamentale per ottimizzare i processi produttivi. Monitorare il contenuto particellare lungo l’impianto di distribuzione (impianto in esercizio, ripartenze dopo manutenzione) è importante negli attuali processi produttivi dove il livello di pulizia richiesta è critico. Un monitoraggio continuo permette di intervenire rapidamente in caso di cambiamenti dei livelli di purezza del prodotto.
Contaparticelle per Acqua Ultrapura
20 nm Sensibilità Leader del Settore
Molti processi di produzione dei semiconduttori utilizzano acqua ultrapura (UPW) per le fasi critiche di pulizia.
Il risciacquo finale del wafer deve essere eseguito con UPW che abbia un contenuto di particelle con un diametro massimo di 50 nm. Per processi particolarmente critici il livello può scendere fino a 20 nm. L’acqua ultrapura è anche usata per processi di diluizione di sostanze chimiche usate in produzione e conseguente risciacquo dei sistemi di miscelazione e distribuzione (Bulk & Plant distribution systems). Monitorare la qualità dell’acqua (UPW) prodotta con sistemi online permette di gestire in modo proattivo il ciclo di purificazione ed avere sempre un prodotto (UPW) in linea con le richieste della produzione.
Contaminazione Molecolare Aerotrasportata
70 ppt Sensibilità Leader del Settore
La contaminazione molecolare aerodispersa (Airborne Molecular Contamination – AMC ) modificando le proprietà chimiche, fisiche, elettriche o ottiche di superfici altamente ingegnerizzate, può causare perdita di resa, degradazione del prodotto e perdita di controllo del processo. I nostri sistemi rilevano in tempo reale la contaminazione, permettendo di intervenire tempestivamente sui processi produttivi interessati.
Contaparticelle per Gas
Le attuali sofisticate tecnologie di produzione utilizzano gas ultrapuri per produrre semiconduttori all’avanguardia, display a LED/OLED, unità disco e ottiche di precisione ad alto rendimento. Questi gas sono forniti direttamente agli impianti di processo per pulire e proteggere il prodotto nelle diverse fasi produttive. Quando viene fornito gas di scarsa qualità, diminuiscono le rese (difetti sul prodotto, ridotta adesione del film sottile, variazioni delle proprietà elettriche dovute a contaminanti ionici). Per garantire che la qualità del gas sia conforme alle specifiche particellari, il monitoraggio viene effettuato lungo tutto l’impianto di distribuzione (controllo continuo della qualità). I contaparticelle laser integrati con riduttori di pressione dedicati sono utilizzati per controllare e risolvere i problemi di qualità del gas al punto finale di utilizzo o come test di convalida di purezza del gas. Una strategia efficace si attua con un monitoraggio continuo e periodico lungo tutta la linea di distribuzione fino al punto finale di utilizzo.
Contaparticelle per Aria
Nelle aree produttive a contaminazione controllata (Cleanroom) la qualità dei prodotti può essere influenzata dal livello di contaminazione particellare del’aria. Le cleanroom utilizzano sistemi di filtrazione dell’aria attivi che riducono il particolato fino ai limiti imposti dalle differenti classi. Il monitoraggio delle particelle aerotrasportate fornisce dati utili sull’efficienza dell’impianto di filtrazione, sulle fonti di contaminazione e sul potenziale impatto sul prodotto e processo. La scelta di un contaparticelle idoneo è determinato dal processo produttivo che si deve monitorare (standalone-sequenziale-continuo), dalla classificazione della cleanroom ed ovviamente anche dal budget disponibile.
