Monitoring of UPW Systems Using Ultra DI® 20
Grâce à des avancées continues en termes de process et d’équipement, les fabricants de semi-conducteurs peuvent désormais obtenir des largeurs de traits s’approchant de 14 nm et des libellés encore plus petits, tandis que les hauteurs des disques durs sont désormais inférieures à 10 nm.
Ces largeurs de traits toujours de plus en plus petites nécessitent des améliorations comparables en terme de niveau de propreté dans les systèmes d’eau ultrapure. La pureté de l’eau ultrapure est particulièrement importante avec son utilisation abondante en contact direct avec les wafers en tant qu’agent final de nettoyage et de rinçage dans de nombreuses étapes de production.
En exploitant de récentes avancées dans les optiques de laser et la technologie des détecteurs, la concentration particulaire d’eau ultrapure ≥20 nm (≥9 nm pour les particules métalliques) peut être surveillée avec efficacité.
Ce document établit une comparaison de trois modèles de compteurs de particules en eau ultrapure pour vous aider à identifier les meilleures solutions pour votre application.
