Monitoring von UPW-Systemen mit Ultra DI 20

Durch kontinuierliche Fortschritte bei Prozess und Betriebsanlagen nähern sich die Hersteller von Halbleitern Strukturgrößen von 14 nm und sind bestrebt, die Miniaturisierung noch weiter voranzutreiben. Bei Festplatten betragen die Abstände zwischen Schreib-/Lesekopf und Festplattenoberfläche mittlerweile weniger als 10 nm. Diese ständig weiter verringerte Strukturgröße der Geräte erfordert vergleichbare Verbesserungen bei den Reinheitswerten in Reinstwasser (UltraPure Water, UPW). Die UPW-Reinheit ist besonders wichtig, da das Reinstwasser als Endreinigungs- und Spülmedium oft und in vielen Produktionsschritten direkt mit den Wafern in Kontakt kommt. Die jüngsten Fortschritte in der Laseroptik und der Detektortechnologie ermöglichen nun ein effektives Monitoring von UPW-Partikelkonzentrationen ≥20 nm (≥9 nm für metallische Partikel). 

Monitoring of UPW Systems Using Ultra DI20 cover

Diese Abhandlung vergleicht die drei Modelle von UPW-Partikelzählern und hilft Ihnen, die besten Lösungen für Ihre Anwendung zu finden.

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