Optimierte Überwachung der molekularen Kontamination in der Luft für die Lithographie
Ein neuer Ansatz zur Überwachung der molekularen Kontamination in der Luft in der Lithographie wird von Branchenexperten von Particle Measuring Systems vorgestellt. Jüngste technische Fortschritte haben es möglich gemacht, eine kontinuierliche Echtzeitüberwachung mit signifikanten Fortschritten in Bezug auf Empfindlichkeit und Stabilität durchzuführen und gleichzeitig die Auswirkungen von Probenschläuchen zu minimieren.
Diese Verbesserungen werden durch die Verwendung eines kleinen, kostengünstigen Monitors realisiert, der für die Überwachung eines einzelnen Standorts vorgesehen ist. Ein dedizierter Point-of-Use-Monitor bietet gegenüber einem herkömmlichen Mehrpunkt-Probenahmesystem die folgenden Vorteile: kontinuierliche Überwachung, keine versäumten Kontaminationsereignisse, Probenrohrlängen von 20 bis 30 Metern auf 2 bis 3 Meter und 5 bis 10-mal besser Empfindlichkeit. Verbesserungen der Empfindlichkeit und Stabilität werden durch einen speziellen Überwachungsansatz zur Überwachung der molekularen Kontamination erzielt. Da der Monitor kontinuierlich dieselbe Umgebung abtastet, kann die Stichprobenmittelung auf sehr effektive Weise verwendet werden, um die …
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