实时监测:检查和光刻应用

Real-Time Monitors: Review and Lithography Applications

实时监控:检查和光刻应用,193nm光刻胶、扫描仪光学元件以及覆盖,对空气分子污染物(AMC)的灵敏度明显远远高于早期光刻技术。然而,即使旧设备也会受到AMC的严重影响。

此外,虽然晶圆厂可以控制AMC水平,但环境或工具压力差的偏移可能会影响过程和设备,随着时间的推移,可能会对光刻照明功率或均匀性产生重大影响。

因此,扫描仪制造商规格级别的精确、可靠、实时的AMC测量是监测关键环境的自然选择。本文讨论了各种实时监控器的优缺点,并提出了各自的策略和应用。

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