离线式纯水和化学品颗粒监测干扰因素

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摘要

在半导体和液晶面板制造中,产品几何尺寸减小得非常快。由于生产工艺的提升,无论是工艺制造过程中清洗用的去离子纯水,还是工艺制造过程中需要的特殊化学品,都需要对其颗粒污染物水平进行监测。完备的化学品和纯水质量监测方案,从开始接收来料化学  品或者纯水制备系统刚刚生产出来的去离子水阶段,就应该对颗粒污染物水平进行监测,甚至监测需要贯穿到整个工艺生产过程。在整个工艺生产过程中,最有效的方法应该是连续的在线监测方式。 但是由于一些客观的条件限制,有些在线监测方式难以有效的施行。因此很多用户会选择离线式监测纯水和化学品中的颗粒污染物。

由此,建立一个不容易受到干扰的离线取样和监测流程,对于是否会产生假阳性数据就至关重要了。 而往往由于各种干扰性因素的存在,造成用户操作起来会遇到很多挑战。

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