Marken von Particle Measuring Systems
Die nachfolgend genannten sind eingetragene oder nicht eingetragene Handels- oder Dienstleistungsmarken, die Particle Measuring Systems oder seinen Schwestergesellschaften gehören. Wenn Sie Fragen zu Marken in dieser Liste haben, wenden Sie sich bitte per E-Mail an [email protected]
Wenn Handels- oder Dienstleistungsmarken in dieser Liste nicht genannt sind, stellt dies keinen Verzicht von Particle Measuring Systems auf Marken oder sonstige geistige Eigentumsrechte im Zusammenhang mit der jeweiligen Handels- oder Dienstleistungsmarke dar.
Die nachfolgend genannten sind eingetragene Marken von Particle Measuring Systems Inc.
AirCapt®
Air Trace ®
Airnet®
AirSentry®
Ascotec®
BioCapt®
BioLaz®
Chem 20TM
ENODE®
FacilityPro®
IsoAir®
Lasair®
Liquistat®
LiQuilaz®
MicroSafe® (Registered in Italy only)
MiniCapt®
MiniNet®
Nano-ID®
NanoVision Technology®
Particle College®
Particle Measuring Systems®
PMS®
Sterisafe®
SurCapt®
Surfex®
Ultra Di®
UltraChem®
Vaculaz®
The following are trademarks of Particle Measuring Systems Inc.
HPD™III
Without Measurement There Is No Control™
Virtuelle Patentkennzeichnung von Particle Measuring Systems:
Die folgenden Produkte von Particle Measuring Systems sind in den USA und anderen Ländern durch Patente geschützt. Mit dieser Website werden die Bestimmungen zur virtuellen Patentkennzeichnung verschiedener Gesetzgebungen, einschließlich der Bestimmungen des America Invents Act zur virtuellen Patentkennzeichnung (35 U.S.C. § 287(a)), erfüllt.
Die folgende Liste mit Produkten von Particle Measuring Systems ist unter Umständen nicht vollständig. Weitere Produkte von Particle Measuring Systems, die hier nicht aufgeführt sind, können durch ein oder mehrere Patente geschützt sein.
AiM®: Protected by Patents US7235214B2, US2004214334A1, US7208123B2, GB2390161B, JP2004069686A, JP4283047B2, DE10328366A1, US6945090B2, GB2390162B, JP2004029022A, DE10328367A1. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
Airnet®: Protected by Patents US8800383B2, WO2011025763A1, JP2013502596A, JP5574250B2, EP2470876A4, CN102625909B, US7088447B1. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
Airsentry®: Protected by Patents US7985949B2, WO2009018305A1, US2009078862A1, JP2010535345A, JP5617633B2, CN102318035B, EP0995101B1. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
IsoAir®: Protected by Patents US6167107A, JP2004045419A, EP1196832A2, EP1271126A3, WO0106333A3, JP2003505671A, JP3559782A2, DE60005518T2. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
Lasair®: Protected by Patents US7,796,255B2, US2008246965A1, WO2008118769A1, JP2010522333A, US7576857, US6859277B2, GB2392494A, US2004042008A1, JP2004085573A, JP4607437B2, DE10338256A1, JP2009276361A, US6,167,107, JP2004045419, EP1196832, EP1271126, WO0106333, JP2003505671, JP3559782, DE60005518. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
Liquistat®: Protected by Patents US5861950A, WO9902966A1, DE69801825T2, JP2000512390A, JP3335645B2, WO2009073652A1, US2009244536A1, US8154724B2, JP2013083656A, JP5610167B2, JP2011505578A, JP5478501B2, JP2011505577A, JP5324598B2, EP2232231A1, EP2232229A4, CN101925809B, CN101910821B, US6859277B2, GB2392494A, US2004042008A1, JP2004085573A, JP4607437B2, DE10338256A1, JP2009276361A. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
MiniCapt® Mobile: Patents may be pending in the U.S. and elsewhere
MiniNet®: Protected by Patents US6615679B1, WO0213943A2, GB2382139B, JP2007192829A, DE10196505T5, JP2004506222A, AU8117501A. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
Rnet®: Protected by Patent US7088447. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
Ultra DI®: Protected by Patents US6859277B2, GB2392494A, US2004042008A1, JP2004085573A, JP4607437B2, DE10338256A1, JP2009276361A. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
UltraChem®: Protected by Patents US7916293B2, US2009219530A1, WO2009073649A1, US2012140223A1, US8427642B2, US2012012757A1, US8174697B2, US2011155927A1, US8027035B2. Additional patents may be pending in the U.S. and elsewhere.
