공정 화학물질에서 파티클 모니터링

요약

Monitoring Particles in Process Chemicals

공정 화학 물질에서 높은 파티클 수준은 제품의 품질에 직접 영향을 미치는 것으로 나타났습니다. 클린 룸 환경에서 파티클 크기 및 수량의 지속적인 감소 필요성은 잘 정립되어 있습니다. 미국 반도체 산업 협회(SIA, Semiconductor Industry Association)가 후원하는 국제 반도체 기술 로드맵(ITRS, International Technology Roadmap for Semiconductors)은 미래 세대 기술 노드를 충족하기 위해 공정 가스, 물, 화학 물질, 공기 중의 파티클 수준의 지속적인 감소의 필요성을 정의합니다. 이러한 오염 물질을 정확하게 측정하는 능력이 종합적인 파티클 제어 계획을 개발하는 첫 번째 단계입니다.

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