AiM-200: 表面分子汚染モニタ

表面弾性波（SAW）技術を使った分子汚染監視の最先端技術です。高周波数・温度制御SAWセンサーは、有機・無機質汚染の相互作用による臨界面の微細な変化を検出します。

資料：「表面弾性波(SAW)技術を採用した気中分子汚染(AMC)ろ過評価」 (290.6 KB)

歩留まりを改善
分子汚染濃度の微妙な、あるいは極端な変化をアラームで通知
汚染源の確認
有機凝結物質またはアンモニウム表面の結晶成長のモニタリングにより、フォトリソグラフィの光学機器やレチクルを保護
ゲート酸化膜を損傷する拡散の有機汚染を定量化
化学薬品フィルタの性能を評価し、フィルタの寿命を最大限に伸ばす
非常に微小な汚染も検出
使いやすさ
イーサネットによりデータ転送および通信が容易
パワフルな監視ソフト（Facility Net）によるリアルタイムなデータ表示とトラッキング
汚染物質確認でTOF/SIMS検査のためセンサーチップの取り外し、送付が簡単
コントローラーのLEDおよびボタンで、電力およびプローブ状態の迅速な確認が可能
ソフトウェア・メニューシステムにより、設置や較正変更が容易
高い費用効率
低い設備投資と維持費削減
付着量、付着率、センサー温度、相対的湿度、付着率の統計的平均といったデータを提供
イーサネットおよびRS-232通信により、Facility Netまたは既存の他の管理システムへの統合が容易
サブモノレイヤーの高感度により、製品および処理面に深刻な損傷を与える前に、AMC問題の検知が可能
高周波二酸化ケイ素検出センサーにより、ウェハまたは光学部品表面シリコンを除去

フォトリソグラフィ
拡散
浄化ガス
レチクルおよびウェハ保管
空調システム
ミニエンバイロンメント
化学薬品ろ過
航空宇宙用光学部品
ハードディスクドライブ

AiM 200 仕様書 (169.1 KB)

資料：「分子汚染（AMC）アプリケーションノート」 (294.3 KB)

資料：「半導体デバイス生産における分子汚染のモニタリングアプリケーションノート」 (126.6 KB)

この機器はCE認定を受けています。

AiM®はParticle Measuring Systemsの登録商標です。

米国特許取得および出願中－米国5476002; 米国5661226; 米国6945090; 米国および外国特許出願中

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