一点集中型IMS分析: AirSentry II
パーティクル・メジャーリング・システムズ社の 新型気中分子状汚染（AMC）分析装置、 AirSentry IIは、現場で要求される「性能」を重視して設計されました。改善が加えられた新しいイオン・モビリティー分光技術（IMS）は、pptレベルの分解能、高速反応、高感度（リアルタイム70ppt）の分析を可能にしました。また、中央集中型のプラットフォーム・ソフトウェア（日本語対応版）により、Critical Monitoring(モニタリングを重要視される)点での継続的な詳細検出結果の一括制御、一括管理を実現しました。
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利点
- Critical Monitoring（モニタを重要視される）箇所の継続的なリアルタイム集中モニタ
- 外部校正装置により、校正を統一化
- 堅牢なデザイン、かつ信頼性の置けるデータ管理、データ制御及びデータ分析を実現
- 稼動部を無くし、メンテナンス性を更に向上
- 高速反応化、高感度化を追求
用途
- 露光プロセス管理−レンズのヘイズ管理
- フォトマスク工程−フォトマスクのヘイズ管理
- レジスト・トラック工程−Ｔ−トッピングに起因する汚染発生、汚染制御管理
- フォトマスク点検装置、保管庫−保管庫内の汚染制御管理
- クリーンルーム内の規定汚染濃度管理
- メーキャップエア、循環エアの分析、制御
機能
- 最小検出目量：70 ppt
- IMS分析技術（特許取得）
- 測定範囲：0-50 ppb
- コンパクトで積み重ね可能なデザイン
- データ出力は、Ethernetインターフェース〜 Facility Net ソフトウェア
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AirSentry® は、 Particle Measuring Systems社の登録商標です。
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