御社の汚染防止対策は万全ですか？製品が汚染されていないと確信できますか？汚染モニタの値は良好ですか？汚染は多大な損害を引き起こしかねません。信頼性と正確性の高いモニタリングを継続することにより、損害と稼働停止時間を簡単に回避することができるのです。以下をお読みになり、最新の分子汚染監視技術をご確認ください。

トピックス

  • 分子汚染モニタ
    • AirSentry II 気中分子汚染(AMC)モニタ
    • 表面分子汚染(SMC)モニタ：AiM-200
  • ウェブキャスト：ITRSロードマップ
  • 技術資料: リソグラフィーのために最適化されたAMCモニタリング
  • 次回のプレゼンテーション：
    • マスクヘイジングを回避するための継続的な分子汚染モニタリング
    • 兆単位の濃度におけるAMC検知
  • システムサポート
  • 現場調査試験サービス
  • よくある質問（FAQ）
分子汚染モニタ
AirSentry II 気中分子汚染(AMC)モニタ
AirSentry IIは、検出限界70pptの低価格気中分子汚染モニタです。このクラスでは最も優れた検出限界を誇るリアルタイム分析装置であり、短期間の監視や重要箇所の気中分子汚染推移の長期監視を１台でこなします。続きを読む・・・

表面分子汚染(SMC)モニタ：AiM-200
表面弾性波(SAW)技術を使った分子汚染モニタです。高周波数・温度制御SAWセンサーは、有機・無機質汚染の相互作用による臨界面の微細な変化を検出します。続きを読む・・・

ウェブキャスト：ITRSロードマップ

Particle Measuring SystemsはITRSロードマップ（ITRS Roadmap）におけるウェブキャストのスポンサーを務めました。http://www.semiconductor.net/webcastsDetail/2140132136.htmlより録画画像をご覧いただけます。

技術資料

当社のエキスパートにより作成されたオンラインライブラリーの技術資料は多くの方々に閲覧されています。汚染モニタリングに関する情報が最も簡単に入手できるからです。さらに、年中無休でいつでも閲覧可能という利便性も大好評です。御社のアプリケーションに必要な情報をいつでもご確認いただけます。

リソグラフィーのために最適化されたAMCモニタリング
イオン移動度分光技術（イオン･モビリティー・スペクトロメトリ/IMS）を利用した分子汚染専用モニターは、リアルタイムでNH3とSO2を検知することはもちろん、長期間に亘る監視結果から平均汚染トレンドをpptレベルで報告します・・・ 続きを読む・・・

プレゼンテーション

次回の分子汚染に関するプレゼンテーションには以下の内容が含まれます：

マスクヘイジングを回避するための継続的な分子汚染モニタリング
リソグラフィで分子汚染を監視するという新しいアプローチをご紹介いたします。最新の技術革新により、試料管による影響を最小限に抑え、感度と安定性の向上を実現。継続的なリアルタイムモニタリングが可能となりました。Particle Measuring Systemsのダン・ロディエ（Dan Rodier）が4月18日（金）に『Photomask Japan 2008 第15回ホトマスク技術展示会』で本資料を公開する予定です。

兆単位のAMC検知
兆単位の濃度においてもリアルタイムでモニタリングを行える新しいイオン･モビリティ･スペクトロメーターが公開されました。生産現場であるクリーンルームなど、モニタリングが重要視される場所を集中的に監視する露光ツール、空気管理ツールとして活躍します。Particle Measuring Systemsのスティーブン・ローリー（Steven Rowley）がAdvanced Lithographyにてプレゼンテーションを行います。ぜひ当イベントにご参加ください。ご来場の際は、ブース番号206をお訪ねください。

よくある質問（FAQ）

当社のエキスパートがあなたの質問にお答えしますので、ご質問を送信してください。当社エキスパートが直接回答いたします。もしくはFAQsを参照してください。問題解決につながるかもしれません。

ご質問、お見積もり、製品サポートに関しては私にお問い合わせください。

Hiroshi Kato
Particle Measuring Systems, Tokyo
813-5298-8175
hkato@jp-pmeasuring.com

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Particle Measuring Systemsは微粒子計の開発・製造において35年の経験をもつ微小汚染測定の世界的リーダーです。

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