Monitoraggio continuo di particelle del processo BOE (Buffered Oxide Etch) attraverso l'utilizzo di CLS-700TIl contatore di particelle CLS-700T è in grado di garantire in più modo rapido e affidabile rispetto ai metodi utilizzati in passato basati sull'utilizzo di wafer di monitoraggio l'idoneità del contenitore per il processo BOE. Inoltre è possibile identificare facilmente problemi legati alla manutenzione e di correggerli prima che i wafer di produzione vengano compromessi. Ciò consente di preservare i wafer e ridurre la necessità di una costosa rilavorazione. Download above file for full tables and figures, or for overview, see HTML Version. |
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