Particle Measuring Systems - Surveillance de contamination moléculaire aéroportée optimisée pour la lithographie

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Surveillance de contamination moléculaire aéroportée optimisée pour la lithographie

Optimized AMC Monitoring for Lithography (1.1 MB)

Publié dans la technologie de semi-conducteurs (Solid State Technology), déc 2007.
Moniteurs spécialisés de contamination moléculaire basés sur la spectroscopie mobile ionique (IMS) pouvant détecter des évènements de contamination NH3 et SO2 en temps réel ainsi que la présentation de tendances de niveaux ppb via des moyennages à long terme...

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