Monitoring of UPW Systems Using Ultra DI® 20 (Seguimiento de sistemas de agua ultrapura con el Ultra DI® 20)

A través de un proceso continuo y avances tecnológicos, los fabricantes de semiconductores se están acercando a tamaños de detalle de 14 nm y prosiguen a otros incluso más pequeños, mientras que la altura de las cabezas sobre la superficie del disco está hoy por debajo de los 10 nm. Este tamaño de detalle del dispositivo en constante reducción, requiere asimismo mejoras en el nivel de limpieza en agua ultrapura. La pureza del agua ultrapura es especialmente importante debido al alto uso en contacto directo con las obleas como limpiador final y agente de enjuague en varios pasos de producción. Haciendo uso de los recientes avances en materia de óptica láser y tecnología de detección, se puede realizar un seguimiento efectivo de concentraciones de partículas ≥20 nm (≥9 nm para las partículas metálicas) en agua ultrapura. 

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Este documento proporciona una comparación de los tres modelos de contadores de partículas en agua ultrapura, para permitir identificar la solución que mejor se adapta a la aplicación específica.