AirSentry® II Mehrpunkt-Monitoringsystem

In modernen Reinraum-Fertigungsanlagen sind die Prozesswerkzeuge oft über große Reinraumbereiche und mehrere Stockwerke verteilt. Die Luft wird größtenteils in Luftaufbereitungsanlagen innerhalb eines Reinraums umgewälzt. Dadurch können sich molekulare Verunreinigungen leicht in unerwünschte Bereiche ausbreiten und so Prozessschritte, die räumlich weit von den eigentlichen Kontaminationsquellen entfernt sind, in Mitleidenschaft ziehen. Das AirSentry II AMC-Monitoringsystem stellt eine zentrale und kostengünstige Monitoring-Station bereit, mit der Verunreinigungen rasch erkannt werden können. Darüber hinaus ermöglicht es Monitoring-Sequenzen, mit denen eine große Zahl von über eine Anlage verteilten Probenahmestellen abgedeckt werden kann. Ein entscheidender Baustein in einem strategischen AMC-Monitoring-Programm.

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Merkmale

  • Überwachung von bis zu 30 Probenahmestandorten
  • Ausstattung mit AirSentry II IMS-Sensoren für Ionen-Mobilitäts-Spektrometrie – hochempfindlich, zuverlässig, reproduzierbar
  • Nachweis von Säuren, Aminen, Ammoniak und Chloriden in niedrigen Konzentrationen
  • Auf NIST (National Institute of Standards and Technology) rückführbare Kalibrierungen
  • Software mit Echtzeit-Grafikanzeige

Vorteile

  • Niedrige Kosten je Probenahmestelle
  • Nachweis mehrerer AMC-Verbindungen gemäß vom Anwender definierter Vorgaben
  • Programmiertes Monitoring zur Erkennung von AMC-Ereignissen und -Trends
  • Kompakte Größe
  • Vielseitige Konfiguration von Prüfstandorten

Anwendungen

  • Mehrpunkt-Monitoring von Reinräumen und Prozessbereichen
  • Basis- und Qualifizierungsmessung von AMC-Werten in neuen Reinräumen
  • Analyse und Quantifizierung der Effizienz chemischer Filter
  • Charakterisierung der AMC-Einbringung aus Zusatz- und Umluft

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