使用Ultra DI® 20的超纯水系统监测

通过持续制程以及设备改进,当硬盘驱动器高度小于10nm,半导体生产可以监测接近14nm粒径甚至更小的。日益变小的设备粒径需要超纯水中有可比较的清洁水平的进步。超纯水的纯度特别重要,因为它常常在许多生产步骤中作为最终的清洁剂和清洗剂,直接接触圆晶片。扩充激光光学以及检测器技术的最新进展,超纯水粒子浓度≥20 nm (金属粒子≥9 nm),可被有效地监测

Monitoring of UPW Systems Using Ultra DI20 cover

这个文件提供给您3种型号的超纯水粒子计数器之间的对比,帮助您确定适合您所需应用的最佳解决方案