Monitoramento de sistemas de UPW usando o Ultra DI 20

Por meio de avanços contínuos de processos e equipamentos, os fabricantes de semicondutores estão se aproximando de dimensões de elemento de 14 nm, e em busca de tamanhos ainda menores, enquanto as alturas de flutuação de disco rígido agora são inferiores a 10 nm. Essa dimensão de elemento de dispositivo cada vez menor exige melhorias comparáveis no nível de limpeza em água ultrapura (UPW). A pureza da UPW é especialmente importante devido ao seu elevado uso em contato direto com as pastilhas como agente final de limpeza e enxágue em muitas etapas de produção. Aproveitando os recentes avanços na tecnologia de detectores e de óptica de laser, uma concentração de partículas na UPW ≥20 nm (≥9 nm para partículas metálicas) pode ser efetivamente monitorada.

Este artigo fornece uma comparação de três modelos de contadores de partículas de UPW para ajudá-lo a identificar as melhores soluções para sua aplicação.

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